顏料研磨分散設備
GMD2000系列(lie)顏料研(yan)磨(mo)分(fen)散設備(bei)的(de)(de)線(xian)速度(du)很高(gao)，剪切間隙非常小，這樣(yang)當(dang)物料經(jing)過的(de)(de)時候，形成(cheng)的(de)(de)摩(mo)擦力(li)就(jiu)比較劇烈(lie)，結果就(jiu)是通常所(suo)說的(de)(de)濕磨(mo)。定(ding)轉子(zi)(zi)被制成(cheng)圓(yuan)椎(zhui)形，具(ju)有精細度(du)遞升的(de)(de)多(duo)級鋸(ju)齒突起和(he)凹(ao)槽(cao)。定(ding)子(zi)(zi)可以無(wu)限制的(de)(de)被調整到所(suo)需(xu)要(yao)的(de)(de)與轉子(zi)(zi)之間的(de)(de)距離。在增(zeng)強的(de)(de)流(liu)(liu)體湍流(liu)(liu)下，凹(ao)槽(cao)在每(mei)級都可以改(gai)變方向(xiang)。高(gao)質(zhi)量的(de)(de)表面拋光和(he)結構材料，可以滿足(zu)不同(tong)行(xing)業的(de)(de)多(duo)種要(yao)求。
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